Atomic layer deposition of titanium, zirconium and hafnium dioxides: growth mechanisms and properties of thin films

5,00 €

Tartu : Tartu University Press, 2007

218, [1] lk. : ill. ; 25 cm

Dissertationes physicae Universitatis Tartuensis, 1406-0647 ; 48, [p.o. 49]

ISBN : 9789949115426

Pehmeköiteline, ja heas korras raamat.

Kogus

Titaan-, tsirkoonium- ja hafniumdioksiidide aatomkihtsadestamine: kasvumehhanismid ja õhukeste kilede omadused

Doktoritöö : Tartu Ülikool, 2007

Kokkuvõte eesti keeles

Aarik, Jaan
1 Ühik